地坪光亮剂产品，是一种新型地坪抛光材料，采用了源自德国的特种高分子材料的高科技产品，和普通地坪光亮剂不同的是，它不仅仅是在表面形成一个膜层，它能够深入渗透到地面内部，经过物理机械抛光后能赋予地坪很好的光泽度。力特克地坪光亮剂产品适用于：金刚砂耐磨地坪、混凝土密度固化地坪、水磨石地坪、大理石等产品的表面抛光之用。

通过上面的介绍，我们在施工硬化地坪时，非常有必要用地坪抛光液进行抛光，因为地坪抛光液不单单只是提高地坪的光泽度，还能提高地面抗渗、防尘、抗污保洁的功能，让地坪更有质感的同时，也能更好的对地面进行养护。可以说硬化地坪使用抛光液进行抛光并非画蛇添足而是锦上添花，让硬化地坪的效果更上一层楼！

地坪抛光液的施工方法：

利用拖把、刮刀、软毛刷或滚筒等涂刷均匀，待地面将光亮剂吸收（约20分钟）后，再用软性物擦拭表面或者用抛光机抛光（采用白色羊毛纤维垫），直至光亮度表现出来为止。抛光完成后，即可上人，气温较低时，间隔时间需要适度延长。

注意事项：

内含乳化剂和少量溶剂，未经稀释的本产品可能刺激眼睛。使用时应避免溅入眼睛中或皮肤上。若不慎溅入眼睛里或皮肤上，需用大量的清水冲洗。若仍有刺激性，请看医生。本品不能吞服，若不慎吞服，及时就医。不用时保持容器密封。谨防儿童接触。

化学机械抛光

这两个概念主要出半导体加工过程中，初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势：单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，平整性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面，又可以得到较高的抛光速率，得到的平整度比其他方法高两个数量级，是能够实现全局平面化的有效方法。