稀土抛光粉主要成份为二氧化铈（CeO2），其次分别为氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧（LaOF），此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。下面就说说稀土抛光粉的生产工艺。

一、*高铈系稀土抛光粉的生产

1.以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大、粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。

2.其主要工艺过程为 : 原料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高铈稀土抛光粉产品。主要设备有 : 煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。 主要指标 : 产品中w（REO）=0.99 ,w（CeO2）=0.99; 稀土回收率约0.95.该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉很早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。

二、*中铈系稀土抛光粉的制备

1.用混合稀土氢氧化物（w（REO）=0.65 ,w（CeO2）≥0.48） 为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（ 沉淀剂） 使转化成 w（CeO2）=0.80 ~ 0.85 的中级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

原料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉淀 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 → 细磨筛分 → 中级铈系 稀土抛光粉产品。

2.主要设备有 : 氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。

3.主要指标 : 产品中 w（REO）=0.90, w（CeO2） =0.80 ~ 0.85 ; 稀土催化材料回收率约0.95 ; 平均粒度 0.4 微米 ~ 1.3微米 .该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。

三、*低铈系稀土抛光粉的制备

1.以少铕氯化稀土 （w（REO）≥0.45 ,w（CeO2）≥0.48） 为原料，以合成中间体（ 沉淀剂） 进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为 : 原料 → 溶解 → 复盐沉淀 → 过滤洗涤 → 高温煅烧 → 粉碎 → 细磨筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。

2.主要设备有 : 溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。

3.主要指标 : 产品中 w（REO）=0.85 ~ 0.90 , w（CeO2）=0.48 ~ 0.50; 稀土回收率约 0.95; 平均粒径 0.5微米~ 1.5微米 .

4.目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量很多，约占总产量的0.90以上。

以上就是关于三种稀土抛光粉的生产工艺，知道这些后对我们以后的选择也有一定帮助，用户也能更好的挑选适合自己的产品。